原子层沉积系统-可客户化设计

原子层沉积系统ALD-可客户化设计

提供片状、粉末镀膜、卷对卷式科研ALD设备，同时可为科研用户客户化设计ALD, 如大面积（18英寸及以上）、粉末沉积、卷对卷ALD等。

标配：

片状ALD：标配8英寸ALD设备

粉末ALD：流化床法，标配20ml

客户化设计：

客户化片状：可达18英寸(氧化铝均匀性可达7%)或以上

客户化粉末沉积ALD，滚动法

客户化沉积氧化铝卷对卷ALD